Описание оборудования
Apreo 2 разработан для широкого спектра задач: от наноматериалов до магнитных и органических образцов. Уникальная ColorSEM технология предоставляет live-картирование состава, ускоряя анализ в десятки раз по сравнению с традиционными средствами EDS. SmartAlign автоматически выравнивает оптику, а FLASH обеспечивает точную настройку фокусировки и стигматоров, минимизируя вмешательство оператора. Совместимость с Maps Software позволяет эффективно собирать крупномасштабные tiled‑изображения и автоматизировать сценарии измерений.
Инструмент работает в разных вакуумных режимах, включая высокую, низкую (до 500 Па) и режим beam deceleration. Он обеспечивает стабильность при работе с непроводящими, чувствительными или магнитными образцами благодаря инновационной колонне и системе линз.
Функциональность- Live quantitative EDS (ColorSEM) — отображение элементного состава прямо на SEM-изображении в реальном времени, включая карты, линии и идентификацию элементов.
- SmartAlign и FLASH — автоматическое выравнивание, автофокус, автостигмация, коррекция линз центра и Undo-функции упрощают работу оператора.
- Nav‑Cam и Multi-sample stage — ускоренная навигация между образцами в камере, multi-stage загрузка до 18 образцов без прерывания эксперимента.
- Режим beam deceleration и stage bias — широкие диапазоны энергий и компенсации заряда (−4000 В до +600 В) для минимизации повреждений образца.
Преимущества
- Принцип работы: FEG‑источник, колонна с дифференциальной откачкой, система Trinity, beam deceleration
- ПО: ColorSEM, Maps 3, AutoScript 4, Flash/Undo, User Guidance
- Массогабариты: камера Ø 340 мм, 12 портов, stage 110×110 мм, нагрузка до 5 кг
- Условия эксплуатации: напряжение 200 В–30 кВ, вакуум HiVac, LoVac до 500 Па
- Комплектация: ETD, T1–T3, Nav‑Cam+, IR‑CCD, возможно EDS, EBSD, STEM, CL, Raman
- Прочее: plasma cleaning, multi-user режим, beam compensation и сценарии съемки
- Постоянное live‑EDS картирование с ColorSEM прямо в интерфейсе SEM
- Автоматизация SmartAlign и FLASH делает Apreо 2 доступным даже новичкам
- Возможность работы на дистанции до 10 мм с высоким разрешением (1 нм)
- Поддержка нескольких детекторов: ETD, Trinity (T1–T3), Nav‑Cam+, IR‑CCD и опции: DBS, STEM, CL, Raman, WDS
Основные характеристики
Источник | Schottky FEG |
Разрешение | 1.0 нм при 10 мм WD; 0.9 нм при 1 кВ; 0.8 нм при 1 кВ с beam decel.; 1.2 нм при 200 В (dec.) |
Ускоряющее напряжение | 200 В – 30 кВ |
Landing energy / Stage bias | 20 эВ – 30 кВ; −4000 В до +600 В |
Вакуумные режимы | HiVac, LowVac до 500 Па (опция) |
Платформа | 5‑осевая eucentric, 110×110 мм, max вес 5 кг |
Камера | Ø 340 мм, 12 портов, 3 одновременных EDS |
Детекторы | ETD, T1, T2, T3, Nav‑Cam+, IR‑CCD; опции: DBS, STEM 3+, CL, Raman, WDS, EBSD |
Цветной картографический режим | Да (ColorSEM) |
Автоматизация | SmartAlign, FLASH, Undo, User Guidance, Maps tiling |
Сервис и ремонт измерительного оборудования
ФОРМА ДЛЯ
ОБРАТНОЙ СВЯЗИ
Нажимая на кнопку "Отправить", я даю согласие на обработку персональных данных.
Напишите свой вопрос, укажите интересующее оборудование.