Установка для ионного напыления Mini Coater

Компактная система для магнетронного напыления в вакууме (<3 Па), предназначенная для нанесения тонких покрытий, включая благородные металлы — золото, платину и другие. Обеспечивает высокое качество пленок и равномерность осаждения.

Заказать Задать вопрос специалисту

Описание оборудования

Высокопроизводительный пластинчато-роторный насос используется для создания чистого вакуума под давлением <3 Па менее чем за 3 минуты. Использование магнетронных катодов существенно снижает тепловое воздействие плазмы на образец и повреждение его ионной бомбардировкой.

Установка особенно подходит для нанесения покрытия на драгоценные металлы, такие как золото и платина, для СЭМ с вольфрамовой нитью или для настольного СЭМ. Компактное автоматическое управление с сенсорным экраном также являются существенным преимуществом данного прибора.

Основные характеристики

Скорость откачки	> 2 м³/ч
Тип насоса	Пластинчато-роторный
Возможный вакуум	< 2 Па
Рабочее давление	5-10 Па (контроль постоянного давления)
Время откачки	< 3 мин
Вакууметр	Пирани
Вакуумная камера	Ø 120*110 мм; нецарапающееся стекло
Варьирование по высоте	0–20 мм
Размер мишени катода магнетрона	Ø 50 *0,1-2 мм
Распыление	Источник для магнетронного распыления переменной мощности: 20 Вт, макс. 100 мА, 0–800 В постоянного тока.
Время распыления	Программируется (макс. 600 с)
Управление	Сенсорный экран
Вес и размер	~20 кг ~250 мм380 мм310 мм
Электропитание	100–220 В переменного тока, 50/60 Гц
Мощность	< 500 Вт
Охлаждение	Воздушное

Узнать стоимость

Области применения

Все области применения

Металлургия

Геология

Криминалистика

Фармацевтическая промышленность

Экология

Похожее оборудование

LEED & RHEED

Комплекс приборов для дифракции быстрых электронов (RHEED) и дифракции медленных электронов (LEED). Используется для анализа кристаллической структуры поверхности и контроля качества тонких пленок в реальном времени.

Поворотно-наклонный столик для образцов RTSS50

Прецизионный столик с регулируемыми скоростью вращения, углом наклона и высотой. Оптимизирован для использования в процессах ионного напыления, обеспечивая равномерную обработку поверхности образцов.